在半导体光刻工艺的核心战场上，二手 CANON FPA-5500iZ + 步进式光刻机堪称 “精密图形雕刻高手”！龙玺精密在众多半导体设备应用案例分享中，常提到它在成熟制程领域的稳定表现，深受行业关注！

硬核技术参数与性能
光源与分辨率：搭载 ArF 准分子激光光源（波长 193nm），配合高精度投影光学系统，可实现 65nm 及以上制程的光刻工艺，最小线宽分辨率达 65nm，让复杂电路图案精准 “落” 在晶圆上。
高效产能输出：采用步进式扫描曝光技术，每小时可处理 125 片晶圆，搭配自动晶圆传输系统，大幅提升光刻效率，满足量产需求。
超高套刻精度：套刻精度控制在 ±22nm 以内，内置双视场对准系统，确保多层光刻图案的精准叠加，有效保障芯片制造良品率。
智能操作与控制：人性化人机交互界面，支持多组工艺配方存储调用，可快速切换不同光刻参数；设备还具备自动对焦、自动调平功能，降低操作门槛。

广泛应用场景
无论是消费电子芯片、汽车电子芯片制造，还是传感器芯片、功率器件的生产，CANON FPA-5500iZ + 都能发挥关键作用！从晶圆光刻的关键环节，到芯片封装的微小结构加工，它都能以稳定性能助力企业提升生产效率。

作为二手设备，CANON FPA-5500iZ + 经过专业检测与维护，核心光学和运动部件性能依旧在线，是追求性价比的半导体企业优化产线的理想之选！

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